第252章 一子解雙徵（4k） (第3/6頁)
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，不管易科還是冰芯都是行業的領軍者，只要你們好，咱們行業都能跟著好，我們新陽也就自然而然的好了。”
方卓微微點頭，略一沉吟：“好，王總，這次要為你們請功。”
邱慈雲平復了心情，對副總裁閻宗瑞說道：“閻總，我們這邊要做好配合光刻膠最佳化的工作，良率每提升一個點都是好的，除此之外，接下來還要為10nm的最佳化做準備。”
包括柴慶良，眾人的心裡都是一凜，確實，工作還沒結束。
方卓再次感謝王福翔與柴慶良，與他們緊緊握手之後親自送他們出門，等到回到辦公室，看到邱總正在大口大口的喝茶。
“可用，夠用。”方卓重新落座，雙手掩面，聲音從指縫裡鑽出來，“可用，夠用，嘿！”
“對易科是夠用了，對冰芯還需要很大的最佳化。”邱慈雲用椅背撐住身體，笑道，“但現在是夠了，是吧？”
方卓往椅子上一靠，雙手用力的在臉上搓動，全身的力氣彷彿只夠兩個字的回答：“夠了。”
這是水到渠成的水，迎刃而解的刃！
只要能有產能，還有什麼不夠的！
辦公室裡的四個人忽然都不出聲，凌晨的寂靜就蔓延了進來。
許久之後，方卓撐起來身子，說道：“16nm的光刻膠能解決，10nm的就能一以貫之了？”
“不錯。”邱慈雲確認了這一點，“我們是用多重曝光技術，這可以在一定程度上避免大幅調整光刻膠的配方來適應更小的工藝節點。”
旁邊的閻宗瑞補充道：“光刻膠在10nm還是需要進行一些工作的，因為需要承受額外的曝光和蝕刻，所以要求更高的耐受性和穩定性，而且，為了適應多重曝光更復雜的流程，還需要光刻膠更高的曝光劑量視窗和顯影條件，用以保證重複性和良率。”
光刻膠不單單是化學配方的問題，還需要對像底層抗反射塗層、頂層塗層等配套材料進行最佳化，以及對工藝進行全面的最佳化。
他知道梁博士在中芯那邊做10nm的研發，一旦那邊製程突破，接下來就會面臨與冰芯這次類似的問題，屆時在光刻膠方面還需要更復雜的調整，因為兩邊的工藝流程還不同。
但是，這些問題雖然難，相較於光刻膠短缺所導致的停產，又是兩碼事了。
方卓默默點頭。
片刻之後感慨的說道：“終究還是磕磕絆絆的要走出來了。”
不管16nm還是10nm，
