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“比如我們要做14奈米晶片，可以把設計的晶片電路圖案拆開，就得到了兩份28奈米間隔的電路圖案，分兩次把它們刻在矽片上，就會形成完整的14奈米晶片電路圖案，就類似於我們龍國的太極圖，一陰一陽互補的意思。”
“因為是兩塊晶片掩膜版，所以要給雙倍的流片費用。”
陳星大致聽明白了，這個多重曝光技術就相於要印刷一個AB字母的組合圖案。
第一步先把AB拆開，得到A與B兩個圖案，然後將它們分別製作光掩膜版，緊接著用第一塊A字母的掩膜版在矽片上刻了A，再用B字母的掩膜版在矽片上刻上B，最終得到所需要的AB組合圖案。
八個字概括就是，精度不夠，工序來湊。
“要花兩倍的流片費用，高總，14奈米的……”
陳星剛想問問流片費多少，卻發現高永明整個人止不住顫抖，瞳孔微縮的同時，充滿了恍然大悟與激動之色。
他身旁的兩位光刻工程師，也在喃喃低語。
“多重曝光…”
“既然單次精度不夠，為何不分兩次曝光呢？”
“好天才的想法…”
三人似乎進入了頓悟狀態，高永明本身就是幹這方面的，同時也是光刻領域的教授，他自然不會聽不懂林天在說什麼，現在他腦海只有一段話：“多重曝光技術，DUV光刻機的春天終於要來了嗎？”
一陰一陽的圖案互補，理論上是絕對可以的，而且還能一分為四，雖然工序更復雜，還別說，7奈米晶片真能造！
曲程也在驚歎這個想法，他怎麼說也是半導體領域院士，雖然不是光刻方面的，但步驟他可都是一清二楚的。
驚歎林天想法的同時，也在感慨陳星運氣怎麼這麼好，可以結識到這麼多天才。
高正謙、白衍、林天這三人，他都可以用怪胎形容了，而陳星可以同時和他們結交，並將其收入麾下，怪不得有人說，運氣也是實力的一部分。
不知過去多久，可能有足足十分鐘左右。
“呼——”
唐鑫宇長舒一口氣，看向高永明說道：“生產陰陽晶片掩膜版，沒準真能突破光刻機限制，造出14奈米晶片。”
“我覺得可以一試。”
另一位龍芯國際的工程師也開口給予肯定。
以往他們的思維是，擁有多少奈米精度的光刻機，就製造多少奈米的晶片，這也是國際一直灌輸的刻板理念，讓
