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天宇科技被突如其來的訂單推動著高速運轉。那僅有的三套光刻機生產線，如同瓶頸一般，制約著晶片生產的規模與速度。林宇再次踏入姜老的實驗室，心中滿是對光刻機技術進展的期待。
實驗室裡一如既往地瀰漫著嚴謹而專注的氛圍。各種儀器裝置發出輕微的嗡嗡聲，彷彿在訴說著研發工作的緊張與忙碌。姜老正站在一塊巨大的白板前，上面畫滿了複雜的光路圖和技術引數，他正和幾位年輕的研究員熱烈地討論著。
看到林宇進來，姜老臉上露出一絲欣慰的笑容：“林總，你又來關心光刻機的進展了。”
林宇急切地回應道：“姜老，這訂單壓力實在太大了，光刻機的產量直接關係到我們能否按時交付產品啊。上次那100奈米光刻機技術現在進展得怎麼樣了？”
姜老放下手中的筆，帶著林宇走到一臺大型裝置前。這臺裝置被各種線纜和防護裝置包裹著，看起來充滿了科技感。
“林總，你看，自從上次你來過後，我們在100奈米光刻機技術上又取得了不少關鍵的進展。”姜老一邊說，一邊示意助手開啟裝置的展示模式。
裝置的顯示屏上開始出現各種資料和模擬動畫。姜老指著螢幕上的一個部件模型解釋道：“這是我們重新設計的光刻鏡頭，在你給我們的技術基礎上，我們進一步最佳化了鏡頭的光學結構。現在這個鏡頭的數值孔徑提高了不少，能夠更有效地收集和聚焦光線，這對於提高光刻解析度至關重要。”
林宇看著螢幕上覆雜的結構模型，心中滿是驚喜：“姜老，這看起來很了不起啊。那這個鏡頭在實際測試中的表現如何呢？”
姜老微微一笑，帶著林宇來到一個測試間。測試間裡，一臺小型的光刻實驗裝置正在執行。透過觀察窗，可以看到微弱的光線在晶片樣本上精確地刻蝕著微小的電路圖案。
“林總，我們已經進行了多次實際測試。這個新鏡頭在100奈米尺度下的光刻精度已經非常穩定了。它能夠清晰地刻出複雜的電路結構，而且在不同的晶片材料上都表現出了良好的適應性。”姜老自豪地說道。
林宇心中的一塊大石頭落了地：“姜老，這真是個好訊息。那EUV光源的穩定性問題呢？上次您提到這個是一個關鍵的挑戰。”
姜老的表情變得嚴肅起來：“林總，EUV光源的穩定性我們也有了很大的改善。你還記得上次我們調整了光源的激發頻率和能量輸入方式嗎？在那之後，我們又對光源的內部結構進行了最佳化。”
