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姜老帶著林宇來到一個單獨的房間，裡面擺放著一個巨大的EUV光源裝置。裝置周圍佈滿了各種監測儀器，資料在螢幕上不斷跳動。
“我們改進了EUV光源的等離子體產生機制，透過精確控制電子的注入和磁場的約束，使得等離子體的穩定性大大提高。現在，EUV光源的輸出功率波動已經控制在一個非常小的範圍內，基本能夠滿足長時間光刻的需求。”姜老詳細地介紹著。
林宇仔細觀察著儀器上的資料，臉上露出了滿意的笑容：“姜老，您和您的團隊真是太厲害了。這對我們公司來說是一個巨大的突破。”
姜老擺擺手：“林總，先別高興得太早。雖然我們在這些關鍵部件上取得了進展，但整個光刻機系統還有一些問題需要解決。”
林宇心中一緊：“姜老，還有什麼問題呢？”
姜老帶著林宇回到白板前，指著白板上的一些電路圖和控制系統圖說道：“林總，你看，目前我們的光刻機控制系統還不夠智慧化。在光刻過程中，需要實時監測和調整的引數非常多，比如光刻膠的曝光劑量、工作臺的移動速度、光源的功率等等。我們現有的控制系統在處理這些複雜的引數時，響應速度和精度還有待提高。”
“姜老，我仔細思考過您之前提到的光刻機控制系統的問題。我有一些想法，或許能夠對其進行最佳化。”林宇自信地說道。
姜老眼睛一亮：“林總，那你快說說看。”
林宇走到白板前，拿起筆開始畫圖講解。“目前控制系統在處理多個複雜引數時響應速度和精度不足，我們可以從架構上進行重新設計。首先，採用分層式的控制系統架構，將整個系統分為感知層、決策層和執行層。”
林宇在白板上畫出簡單的架構圖，繼續解釋道：“感知層負責實時收集光刻過程中的各種引數，如光刻膠的曝光劑量、工作臺的移動速度、光源的功率等。我們可以採用更先進的感測器技術，提高引數採集的精度和頻率。”
一位年輕的研究員問道：“林總，那目前的感測器技術可能無法滿足這麼高的要求，我們需要重新研發嗎？”
林宇微笑著回答：“我們不需要完全重新研發。可以對現有的感測器進行改進，透過最佳化感測器的材料和結構來提高效能。我知道有一些新型的半導體材料在感測器應用方面有很大的潛力，我們可以嘗試將其引入。”
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姜老點頭表示贊同：“這個想法
